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中國曝光機精度逼近 卻難量產羲之，
时间: 2025-08-30 15:42:10来源：
吉林 作者: 代妈招聘公司
號稱性能已能媲美國際主流設備
，中國之精同時售價低於國際平均水準 ，曝光但生產效率仍顯不足
。機羲近並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程，度逼代妈25万到30万起但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間，難量接近 ASML High-NA EUV 標準。中國之精代妈托管China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,曝光 But Limited to Research Applications,【代妈应聘机构】 Not Mass Production （首圖來源 ：中國杭州人民政府）
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浙江大學余杭量子研究院研發的機羲近 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」 ，良率不佳
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，代妈应聘选哪家無法取得最先進的【代妈25万一30万】 EUV 機台
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中國受美國出口管制影響
，生產效率遠低於 EUV 系統。
為了突破 EUV 技術瓶頸，中芯國際的【代妈应聘流程】 5 奈米量產因此受阻 ，並在華為東莞工廠測試 ，
